l 鋼研納克擁有35年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經驗。
l 數(shù)十項ICP-0ES檢測標準的起草單位。
l 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產品標準GB/T36244-2018起草單位。
l Plasma 1500作為擁有更高分辨率的順序掃描型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,能夠為復雜樣品提供可靠分析解決方案。
l 不僅滿足環(huán)境、食品和農業(yè)等日常分析的穩(wěn)健型需求,也能滿足高鹽、有機和多重光譜干擾等復雜樣品的高性能需求,面對鎢、鉬、金、銀、鉑和稀土金屬等復雜基體材料,Plasma 1500也能做到準確分析。
Plasma1500采用高效穩(wěn)定的全固態(tài)射頻發(fā)生器
摒棄低效率的電子管時代,匹配速度快,確保儀器長期高精度運行
輸出功率:500W-1600W連續(xù)1W可調
功率穩(wěn)定性:≤0.1%
頻率穩(wěn)定性:≤0.01%
匹配方式:自動匹配
電磁場泄露輻射強度:<0.5V/m
進樣系統(tǒng)技術參數(shù):
炬管方向:垂直放置
炬管:一體式炬管,中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)
霧化器:同心霧化器或平行通道霧化器,外徑6m,可選標準霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器
霧室:旋流霧化室,可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動泵:4通道12滾輪,轉速連續(xù)可調
光學系統(tǒng)參數(shù):
高衍射效率大面積離子蝕刻全息光柵
光柵刻線(選配) | 光譜范圍 | 分辨率 |
2400g/mm | 165nm ~ 800nm | 0.012nm |
3600g/mm | 165 nm~ 550nm | 0.008nm |
4320g/mm | 165 nm~ 450nm | 0.006nm |
2400+4320條/mm | 165 nm~ 800nm | 0.006nm |
焦距:1000mm
光室恒溫:高精度恒溫35℃±0.1℃
檢測器技術參數(shù):
檢測器:高靈敏度PMT檢測器
分析性能:
檢出限:亞ppb-ppb
短期穩(wěn)定性:RSD≤0.75%(500 X LOD)
長期穩(wěn)定性:RSD≤1.25%(500 X LOD)
儀器規(guī)格:
尺寸:寬x深x高(159cm x 65cm x 75cm)
重量:180kg
工作環(huán)境:
實驗室濕度環(huán)境:相對濕度20%~80%
氬氣純度:不小于99.995%
排風:不小于400立方米/小時或風速>5米/秒,風量/風速可調
電源:200V~240VAC 單相:50Hz~60Hz;4kVA
l 大面積高刻線密度平面全息光柵,1000mm焦距Czerny-Turner結構高質量光學系統(tǒng),光通量大,分辨率高。
l 雙光柵、雙濾光片設計,配合雙通道高靈敏PMT檢測器,獨特的動態(tài)范圍信號處理技術,使整個波長分布范圍內均具有恒定的高分辨率。
l 紫外光譜范圍內自動切換使用紫外專用PMT,在深紫外光譜范圍依然保持高的靈敏度,提供多譜線選擇的可能。
l 穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的穩(wěn)定運行。
l 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。