
儀器型號(hào):FE-2050T
制 造 商:納克微束
原 產(chǎn) 地:北京
更新時(shí)間:2025-10-24
鏡筒內(nèi)減速技術(shù)
搭載鏡筒內(nèi)減速技術(shù),在極低著陸電壓下仍可以有效控制像差,提供超高分辨成像水平。
”三物鏡“技術(shù)
物鏡系統(tǒng)由兩組電磁透鏡和一組靜電透鏡組成,三組物鏡均可獨(dú)立控制并任意組合以聚焦電子束;三種物鏡的靈活組合可以應(yīng)對(duì)更加多樣的觀測(cè)場(chǎng)景,用戶在不改變工作距離的前提下即可實(shí)現(xiàn)一鍵全自動(dòng)切換超大視野、超大景深、超高分辨等多種成像模式。
MD多功能能量選擇探測(cè)器
可同時(shí)收集SE、中角度BSE信號(hào),生成同時(shí)展示形貌襯度與成分襯度、突出樣品表面輪廓的圖像;能量濾波網(wǎng)格設(shè)計(jì),SE信號(hào)、BSE信號(hào)(<4000eV)可被濾掉,增強(qiáng)樣品表面特征的BSE襯度。
成像圖:
| 技術(shù)參數(shù) | 規(guī)格詳情 |
|---|---|
| 電子槍 | 高亮度肖特基電子槍 |
| 鏡筒技術(shù) | 鏡筒內(nèi)減速技術(shù);"三物鏡"技術(shù)(雙組磁透鏡,單組電透鏡) |
| 分辨率 | 高真空:0.7nm@15kV; 1.2nm@1kV; 1.5nm@500V 低真空:2nm@15kV |
| 放大倍率 | x2~x2,000,000 |
| 最低可成像電壓 | 30V |
| 束流 | 1pA-400nA,連續(xù)可調(diào) |
| 最大成像視野 | 80mm |
| 樣品臺(tái)行程 | X=130mm, Y=130mm, Z=95mm |
| 樣品臺(tái)傾斜角度 | -70°~+90° |
| 電子槍極限真空 | < 1.0×10^-7Pa |
| 主倉(cāng)室極限真空 | < 1.0×10^-3Pa |
| 換樣時(shí)間 | < 3.5分鐘 |
| 尺寸/重量 | L×W×H:760nm×960nm×1850mm; 700kg |
超高分辨能力
旗艦級(jí)場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)鏡筒,
最高分辨能力可達(dá)1.2nm@1kV,0.7nm@15kV
鏡筒內(nèi)減速
配備鏡筒內(nèi)減速技術(shù),可以提供低至50eV的超低能量超高分辨成像能力,輕松觀察樣品極表面細(xì)節(jié)
絕緣樣品、不耐輻照樣品、磁性樣品均可觀測(cè)
多模式一鍵切換
三物鏡結(jié)構(gòu)提供更加靈活多變的物鏡組合模式,無(wú)需改變工作距離即可一鍵切換超大視野、超大景深、超高分辨、超大束流等多種觀測(cè)模式。
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